集成电路布图设计保护条例
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集成电路布图设计保护条例
(2001 年3月28 日国务院第 36 次常务会议通过 2001
年4月2日中华人民共和国国务院令第 300 号公布 自 2001
年10 月1日起施行)
第一章 总则
第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成
电路技术的创新,促进科学技术的发展,制定本条例。
第二条 本条例下列用语的含义:
(一)集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料
为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或
者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种
电子功能的中间产品或者最终产品;
(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成
电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全
部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述
三维配置;
(三)布图设计权利人,是指依照本条例的规定,对布图
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设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织;
(四)复制,是指重复制作布图设计或者含有该布图设计
的集成电路的行为;
(五)商业利用,是指为商业目的进口、销售或者以其他
方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或
者含有该集成电路的物品的行为。
第三条 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设
计,依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,
依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有
关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护
国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
第四条 受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图
设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图
设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规
设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体
应当符合前款规定的条件。
第五条 本条例对布图设计的保护,不延及思想、处理
过程、操作方法或者数学概念等。
第六条 国务院知识产权行政部门依照本条例的规定,
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负责布图设计专有权的有关管理工作。
第二章 布图设计专有权
第七条 布图设计权利人享有下列专有权:
(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创
性的部分进行复制;
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路
或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
第八条 布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登
记产生。
未经登记的布图设计不受本条例保护。
第九条 布图设计专有权属于布图设计创作者,本条例
另有规定的除外。
由法人或者其他组织主持,依据法人或者其他组织的意
志而创作,并由法人或者其他组织承担责任的布图设计,该
法人或者其他组织是创作者。
由自然人创作的布图设计,该自然人是创作者。
第十条 两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作
的布图设计,其专有权的归属由合作者约定;未作约定或者
约定不明的,其专有权由合作者共同享有。
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1集成电路布图设计保护条例(2001年3月28日国务院第36次常务会议通过 2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布 自2001年10月1日起施行)第一章 总则第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术的创新,促进科学技术的发展,制定本条例。第二条 本条例下列用语的含义:(一)集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路...
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